[发明专利]一种高选择比氮化硅蚀刻液、其制备方法及应用有效
| 申请号： | 202010822571.9 | 申请日： | 2020-08-14 |
| 公开（公告）号： | CN111849487B | 公开（公告）日： | 2021-09-28 |
| 发明（设计）人： | 王溯;孙红旗;季峥;蔡进 | 申请（专利权）人： | 上海新阳半导体材料股份有限公司 |
| 主分类号： | C09K13/06 | 分类号： | C09K13/06;H01L21/311;C07F7/18 |
| 代理公司： | 上海弼兴律师事务所 31283 | 代理人： | 王卫彬;陈卓 |
| 地址： | 201616 *** | 国省代码： | 上海;31 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： |
本发明公开了一种高选择比氮化硅蚀刻液、其制备方法及应用。该蚀刻液由下述原料制得，所述的原料包括以下质量分数的组分：75％‑85％的磷酸、0.1％‑12％的化合物A和3％‑24％的水，所述的质量分数为各组分质量占各组分总质量的百分比。本发明的蚀刻液对氧化硅和氮化硅的蚀刻速率选择比适当、能够选择性地去除氮化物膜、提升蚀刻液的寿命且能适应层叠结构层数的增加。 |
||
| 搜索关键词： | 一种 选择 氮化 蚀刻 制备 方法 应用 | ||
【主权项】：
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于上海新阳半导体材料股份有限公司，未经上海新阳半导体材料股份有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/202010822571.9/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：一种高强度耐蚀的低镍焊条
- 下一篇：机夹摆动控制装置
