[发明专利]基于氧化镓衬底的高效紫外发光二极管及制备方法有效

专利信息
申请号: 202010826165.X 申请日: 2020-08-17
公开(公告)号: CN111816739B 公开(公告)日: 2022-07-12
发明(设计)人: 许晟瑞;胡琳琳;王学炜;张雅超;段小玲;陈大正;宁静;张进成;郝跃 申请(专利权)人: 西安电子科技大学芜湖研究院
主分类号: H01L33/02 分类号: H01L33/02;H01L33/12;H01L33/06;H01L33/00
代理公司: 西安嘉思特知识产权代理事务所(普通合伙) 61230 代理人: 李园园
地址: 241000 安徽省芜湖市弋江区高*** 国省代码: 安徽;34
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摘要: 发明涉及一种基于氧化镓衬底的高效紫外发光二极管及制备方法,其中,该发光二极管包括:自下而上依次层叠的衬底层、AlN成核层、n型GaN层、量子阱层和p型BN层;第一电极,设置在n型GaN层的上表面;第二电极,设置在p型BN层的上表面;其中,衬底层为Ga2O3材料,AlN成核层采用磁控溅射工艺制备。本发明的基于氧化镓衬底的高效紫外发光二极管,选取Ga2O3作为衬底层,Ga2O3与GaN晶格失配小,减小了材料所受应力,提高了器件的发光效率,另外,采用p型BN来提供空穴,由于Mg在BN中离化率较高,电导率也较高,从而进一步提高了器件的发光效率。
搜索关键词: 基于 氧化 衬底 高效 紫外 发光二极管 制备 方法
【主权项】:
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