[发明专利]改善渗氮取向硅钢表面亮点缺陷的工艺方法有效
申请号: | 202010831225.7 | 申请日: | 2020-08-18 |
公开(公告)号: | CN112030168B | 公开(公告)日: | 2022-10-04 |
发明(设计)人: | 田文洲;王雄奎;丁哲;肖光润;陈博;胡伟东 | 申请(专利权)人: | 武汉钢铁有限公司 |
主分类号: | C23F17/00 | 分类号: | C23F17/00;C21D1/26;C21D1/74;C21D3/04;C21D6/00;C21D8/12;C21D9/00;C22C38/02;C22C38/04;C22C38/06;C22C38/16;C23C8/26 |
代理公司: | 武汉开元知识产权代理有限公司 42104 | 代理人: | 王和平;程杰 |
地址: | 430083 湖北省*** | 国省代码: | 湖北;42 |
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摘要: |
本发明公开了一种改善渗氮取向硅钢表面亮点缺陷的工艺方法,属于炼钢技术领域。探究发现采用两段式或三段式干气渗氮退火工艺,不能彻底解决亮点缺陷的产生,其控制合适表面状态的工艺区间非常小,质量稳定性差,统计的亮点缺陷发生率在40%以上,因此在现有低温取向硅钢制造工艺基础上进行大量改进和优化,设计了本发明的三段式功能区渗氮工艺后,由于脱碳段、渗氮段、扩散段三个区的气氛界面的梯度更小,使得氧化层、渗N量及组织的均匀性和稳定性都得到明显提高,尤其是氧化层结构更加合理,其FeO/SiO |
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搜索关键词: | 改善 取向 硅钢 表面 亮点 缺陷 工艺 方法 | ||
【主权项】:
暂无信息
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