[发明专利]高丹草宽窄行一穴双株膜上覆土栽培方法在审

专利信息
申请号: 202010834420.5 申请日: 2020-08-19
公开(公告)号: CN111919676A 公开(公告)日: 2020-11-13
发明(设计)人: 刘贵波;李源;赵海明;游永亮;武瑞鑫 申请(专利权)人: 河北省农林科学院旱作农业研究所
主分类号: A01G20/00 分类号: A01G20/00;A01G13/02
代理公司: 石家庄元汇专利代理事务所(特殊普通合伙) 13115 代理人: 周大伟
地址: 053000 河*** 国省代码: 河北;13
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摘要: 发明属于牧草栽培技术领域,提出了高丹草宽窄行一穴双株膜上覆土栽培方法,包括播种高丹草种子后覆膜,覆膜完成后进行膜上覆土,所述膜上覆土是在所覆膜上,以高丹草种子为中心,半径10cm内覆上2‑3cm的土层。通过上述技术方案,在保证产量和效益的同时,解决了现有技术中高丹草播种后一个月因气候干旱、少雨多风、地表蒸发大,导致耕层土壤水分散失严重、播种后保苗困难、出苗率低的问题。
搜索关键词: 高丹草 宽窄 行一穴双株膜上覆土 栽培 方法
【主权项】:
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