[发明专利]一种地坑、包括该地坑的RCS微波暗室以及在该暗室内更换支架的方法有效
| 申请号： | 202010841072.4 | 申请日： | 2020-08-20 |
| 公开（公告）号： | CN111999713B | 公开（公告）日： | 2023-06-09 |
| 发明（设计）人： | 杨景轩;王聪聪;邓黄建 | 申请（专利权）人： | 北京环境特性研究所 |
| 主分类号： | G01S7/41 | 分类号： | G01S7/41;G01S7/02 |
| 代理公司： | 北京格允知识产权代理有限公司 11609 | 代理人： | 周娇娇 |
| 地址： | 100854*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种地坑、RCS微波暗室及在该暗室内更换支架的方法。地坑包括第一区域和第二区域；第一区域布置有底部滑轨、倒伏金属支架、盖板；底部滑轨设置在第一区域的底部；倒伏金属支架滑动连接在底部滑轨上；盖板包括翻转盖板和滑动盖板，翻转盖板和滑动盖板上均覆盖有吸波材料，滑动盖板的长度不低于第二区域的长度；翻转盖板远离第二区域，滑动盖板靠近第二区域；翻转盖板可沿地坑边缘进行翻转；滑动盖板可在第一区域与第二区域之间滑动；第二区域布置有用以放置泡沫支架的支撑台。本发明独立的空间设计与盖板的结构设计、倒伏金属支架的结构设计相互配合，从而能优化支架更换时的操作，削弱由于支架引入的固定杂波，提升RCS测试性能。 | ||
| 搜索关键词： | 种地 包括 该地 rcs 微波 暗室 以及 更换 支架 方法 | ||
【主权项】：
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