[发明专利]一种钕铁硼气流磨底料的高效利用方法有效

专利信息
申请号: 202010843891.2 申请日: 2020-08-20
公开(公告)号: CN112017833B 公开(公告)日: 2023-03-24
发明(设计)人: 吴玉程;曹玉杰;徐光青;崔接武;李磊;张鹏杰;孙威;刘家琴;李炳山 申请(专利权)人: 合肥工业大学;北京矿冶科技集团有限公司
主分类号: H01F1/057 分类号: H01F1/057;H01F41/02
代理公司: 合肥云道尔知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 34230 代理人: 闫兴贵
地址: 230000 *** 国省代码: 安徽;34
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摘要: 发明公开了一种钕铁硼气流磨底料的高效利用方法,包括以下步骤:首先是收集钕铁硼气流磨底料,然后对气流磨底料进行吸氢、半脱氢处理,增加气流磨底料的脆性,有利于后续二次气流磨制粉。随后在添加一定量的含重稀土粉末与纳米颗粒,其中含重稀土粉末可以弥补气流磨底料中的稀土含量,提高磁体的剩磁,添加的纳米颗粒有助于磁体的液相烧结,提高磁体的致密度。本发明使钕铁硼气流磨底料得到高效利用,回收率高达90%以上,有效避免了稀土资源的浪费。
搜索关键词: 一种 钕铁硼 气流磨 高效 利用 方法
【主权项】:
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