[发明专利]一种光学反射膜片匀光处理方法在审

专利信息
申请号: 202010846363.2 申请日: 2020-08-20
公开(公告)号: CN112001076A 公开(公告)日: 2020-11-27
发明(设计)人: 邓世强 申请(专利权)人: 江苏南锦电子材料有限公司
主分类号: G06F30/20 分类号: G06F30/20
代理公司: 南京创略知识产权代理事务所(普通合伙) 32358 代理人: 陈雅洁
地址: 212000 江*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 发明涉及一种光学反射膜片匀光处理方法,通过采用模拟软件进行膜片模型和对应电视机模型的对应模拟,以及通过光学模拟测定确定经匀光处理后的对应位置的模拟光学性能参数是否满足预设需求,从而对应调节选用的UV环保油墨的种类、数量、用量、丝印位置、丝印时间及丝印面积,以最合适的参数为实际丝印过程提供指导,并在实际丝印过程结束后,通过实际光学性能参数与模拟光学性能参数进行对应差值计算,并将计算得到的差值绝对值与预设阈值范围进行比较,从而确定匀光处理是否合格,并分别根据认定合格的匀光处理参数和认定不合格的匀光处理参数对预设模拟丝印规则进行优化,从而保证经匀光处理后的膜片表面透光均匀。
搜索关键词: 一种 光学 反射 膜片 处理 方法
【主权项】:
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