[发明专利]一种岩层产状的计算方法及系统有效
| 申请号： | 202010848655.X | 申请日： | 2020-08-21 |
| 公开（公告）号： | CN112270064B | 公开（公告）日： | 2022-07-26 |
| 发明（设计）人： | 刘修国;花卫华;赵亚博 | 申请（专利权）人： | 中国地质大学（武汉） |
| 主分类号： | G06F30/20 | 分类号： | G06F30/20;G06F17/16;G06N3/00 |
| 代理公司： | 武汉知产时代知识产权代理有限公司 42238 | 代理人： | 孔灿 |
| 地址： | 430000 湖*** | 国省代码： | 湖北;42 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明公开了一种岩层产状的计算方法及系统，该方法包括获取实测产状及其对应的权重系数；获取地质平面图及剖面、地球物理平面图及剖面解释图，并从中提取出地层延伸方向及其对应的权重系数；在提取的地层延伸方向处设置初始产状；利用插值计算算法，计算实测产状点处及地层延伸方向点处初始产状的交叉验证产状；使用参数角θ对地层延伸方向点处初始产状的交叉验证产状进行表达，利用投影计算方法，计算参数角θ对应的投影产状；计算实测产状与实测产状点处交叉验证产状之间，以及地层延伸方向点处的交叉验证产状与其对应的投影产状之间的夹角；结合所得的两个夹角，构建目标优化函数，最后针对目标优化函数进行迭代优化，进行最优投影产状的计算。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 岩层 产状 计算方法 系统 | ||
【主权项】：
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国地质大学（武汉），未经中国地质大学（武汉）许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/202010848655.X/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：一种新型高精度定位天线
- 下一篇：一种用于色选机的物料分选剔除装置
