[发明专利]光学邻近矫正方法及系统、掩模版、设备与存储介质在审
| 申请号： | 202010849851.9 | 申请日： | 2020-08-21 |
| 公开（公告）号： | CN114077774A | 公开（公告）日： | 2022-02-22 |
| 发明（设计）人： | 陈巧丽;孟阳;王英芳 | 申请（专利权）人： | 中芯国际集成电路制造（上海）有限公司;中芯国际集成电路制造（北京）有限公司 |
| 主分类号： | G06F30/17 | 分类号： | G06F30/17;G06F30/27;G03F1/36 |
| 代理公司： | 上海知锦知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 31327 | 代理人： | 高静 |
| 地址： | 201203 上海市浦东新*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明提供一种光学邻近矫正方法及系统、掩模版、设备与存储介质，所述光学临近矫正的方法包括：提供光学临近矫正模型，所述光学临近矫正模型包括参数集；基于机器学习方法优化所述参数集，通过机器学习训练，筛选出对局部特征尺寸问题具有影响的优化参数，使所述优化参数及参数值能够针对局部特征尺寸误差进行调整。本发明能够优化光学临近矫正模型中的参数集，使光学临近矫正模型能够对图形特征尺寸局部异常问题产生更佳的矫正效果，并提高光学临近矫正的效率。 | ||
| 搜索关键词： | 光学 邻近 矫正 方法 系统 模版 设备 存储 介质 | ||
【主权项】：
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