[发明专利]黑场优化方法和装置有效
申请号: | 202010850577.7 | 申请日: | 2020-08-21 |
公开(公告)号: | CN114078420B | 公开(公告)日: | 2023-03-31 |
发明(设计)人: | 王凤强;刘德福;王伙荣 | 申请(专利权)人: | 西安钛铂锶电子科技有限公司 |
主分类号: | G09G3/32 | 分类号: | G09G3/32 |
代理公司: | 深圳精智联合知识产权代理有限公司 44393 | 代理人: | 邓铁华 |
地址: | 710075 陕西省西安市高新区丈*** | 国省代码: | 陕西;61 |
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摘要: | 本发明涉及一种黑场优化方法及一种黑场优化装置。所述方法包括:获取显示单元阵列的黑场时间;基于所述黑场时间从多个黑场优化模式中确定目标黑场优化模式;以及基于所述目标黑场优化模式对所述显示单元阵列进行黑场优化处理,以完成所述显示单元阵列的黑场优化。本发明可以有效减少显示单元阵列的黑场时间。 | ||
搜索关键词: | 优化 方法 装置 | ||
【主权项】:
暂无信息
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