[发明专利]曝光装置及曝光方法有效
| 申请号： | 202010854084.0 | 申请日： | 2020-08-24 |
| 公开（公告）号： | CN111965949B | 公开（公告）日： | 2023-06-06 |
| 发明（设计）人： | 朱天宇;杜卫冲 | 申请（专利权）人： | 中山新诺科技股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 华进联合专利商标代理有限公司 44224 | 代理人： | 朱志达 |
| 地址： | 528437 广东*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种曝光装置及曝光方法，曝光装置包括机架、第一曝光组件、第二曝光组件、监测组件和控制器，第一曝光组件和第二曝光组件均设在机架上，第一曝光组件和第二曝光组件之间形成曝光区；监测组件设在机架上，监测组件用于监测基板的位置；控制器与第一曝光组件、第二曝光组件和监测组件电性连接。曝光方法能够应用于前述的曝光装置。该曝光装置，基板通过曝光区时，第一曝光组件和第二曝光组件分别对基板的相对两侧进行曝光，实现双面曝光，曝光效率高；同时，监测组件实时监测基板的位置，控制器根据基板的实时位置及时调整第一曝光组件和第二曝光组件的曝光路径，以提高曝光精度。 | ||
| 搜索关键词： | 曝光 装置 方法 | ||
【主权项】：
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