[发明专利]一种基于二维投影平面匹配约束的点云配准方法及系统在审

专利信息
申请号: 202010859158.X 申请日: 2020-08-24
公开(公告)号: CN112001955A 公开(公告)日: 2020-11-27
发明(设计)人: 宋军;王双龙;黄慜;郝埃俊;吴伟理;张廷玉;张帅;杨啸宇;韦程文;石继香 申请(专利权)人: 深圳市建设综合勘察设计院有限公司
主分类号: G06T7/33 分类号: G06T7/33
代理公司: 深圳市恒和大知识产权代理有限公司 44479 代理人: 马丽彬
地址: 518100 广东省深圳市龙华区大浪街*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 发明公开了一种基于二维投影平面匹配约束的点云配准方法及系统,点云配准方法包括以下步骤:S100、加载两幅点云,根据点云初始姿态投影到屏幕坐标系生成两幅二维图像数据;S200、分别提取两幅二维图像数据的Affine‑SIFT特征点和描述子,计算最近邻与次近邻比值,得到初始匹配点集;S300、对初始匹配点集进行误匹配点剔除,得到ransac_match_ASIFT;S400、读取ransac_match_ASIFT中的像素点集坐标,得到像素点集坐标在点云中的映射点集三维坐标;S500、通过映射点集三维坐标求解变换矩阵,完成图像预配准;S600、进行迭代得到精确配准结果。点云配准包括显示模块、图像配准模块、预处理模块、点云配准模块且四个模块依次通讯连接。
搜索关键词: 一种 基于 二维 投影 平面 匹配 约束 点云配准 方法 系统
【主权项】:
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