[发明专利]一种低散射损耗的高反射薄膜制造方法有效
| 申请号： | 202010860201.4 | 申请日： | 2020-08-24 |
| 公开（公告）号： | CN112462458B | 公开（公告）日： | 2023-04-25 |
| 发明（设计）人： | 周华拥 | 申请（专利权）人： | 又进无尘科技（苏州）有限公司 |
| 主分类号： | G02B5/08 | 分类号： | G02B5/08 |
| 代理公司： | 北京科亿知识产权代理事务所(普通合伙) 11350 | 代理人： | 汤东凤 |
| 地址： | 215000 江*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种低散射损耗的高反射薄膜、制造方法及设备，具体步骤为：将基板清洗后放入直流磁控溅射装置反应室中，设备内部空间进行恒温预热，预热时间为四小时，预热温度为100°；反应室抽真空，在0.5～3.0Pa压强下，通过加热设备加热原材料容器，使容器中的材料蒸发；采用外加磁场使悬浮状态的小分子原材料会聚在基板表面；在进行低折射率膜层的加工时，在原材料沉积的同时，用额外的离子束轰击正在生长的表面。本发明在结构上设计合理，利用本方法检测可跟检测物不接触，设备轻便，安装维护方便；利用本方法检测无辐射，使用安全；利用本方法检测不需要定期调校，使用效率高；利用本方法检测检测原理直接检测，精度高。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 散射 损耗 反射 薄膜 制造 方法 | ||
【主权项】：
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