[发明专利]自动清洗装置、半导体工艺设备及清洗方法

摘要

本发明公开了一种自动清洗装置、半导体工艺设备及清洗方法，所述自动清洗装置，用于清洁半导体工艺设备中的旋转卡盘的定位销，包括：刷头，所述刷头内设置有刷体，所述刷体上开设有容纳所述定位销的中空腔室，当所述定位销容纳于所述中空腔室内时，所述定位销与所述中空腔室的壁体接触；驱动机构、与所述刷头连接，用于驱动所述刷头旋转，以带动所述刷体相对于所述定位销相对旋转，还用于带动所述刷头上下移动，以使所述定位销与所述中空腔室对接或分离；第一流体通道，与所述中空腔室连通，用于向容纳于所述中空腔室内的所述定位销喷洒清洁溶剂。本申请解决了现有技术中，使用喷嘴朝定位销表面喷洒去离子水，以清理掉定位销表面的污染物的方式，存在的效果不佳的技术问题。