[发明专利]一种高通量3D暗斑生成装置有效
| 申请号： | 202010863942.8 | 申请日： | 2020-08-25 |
| 公开（公告）号： | CN112034626B | 公开（公告）日： | 2022-04-08 |
| 发明（设计）人： | 匡翠方;朱大钊;丁晨良;刘旭;郝翔 | 申请（专利权）人： | 之江实验室 |
| 主分类号： | G02B27/28 | 分类号： | G02B27/28;G02B27/58 |
| 代理公司： | 杭州求是专利事务所有限公司 33200 | 代理人： | 邱启旺 |
| 地址： | 310023 浙江省杭州市余*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种高通量3D暗斑生成装置，并行光束阵列通过横向高通量暗斑阵列的器件后，每束光被调制为涡旋相位光，聚焦后形成横向暗斑；并行光束阵列聚焦后形成横向暗斑阵列；并行光束阵列通过纵向高通量暗斑阵列的器件后，每束光都被调制为0‑π相位分布，每束光聚焦后形成纵向暗斑；并行光束阵列聚焦后形成纵向暗斑阵列；将两种光束进行合束，聚焦后两种光斑进行非相干叠加，形成高通量3D暗斑阵列。本发明可提供稳定的高质量高通量3D暗斑阵列；且器件成本低，体积小，可以实现系统的高度集成；可用于实现并行双光束激光直写和并行受激发射损耗显微成像，极大的提升加工和成像速度。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 通量 生成 装置 | ||
【主权项】：
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