[发明专利]匀胶显影系统、位置校准装置及其校准方法在审
| 申请号： | 202010864205.X | 申请日： | 2020-08-25 |
| 公开（公告）号： | CN112070836A | 公开（公告）日： | 2020-12-11 |
| 发明（设计）人： | 杨钊 | 申请（专利权）人： | 长江存储科技有限责任公司 |
| 主分类号： | G06T7/73 | 分类号： | G06T7/73;G06T7/13;G06T7/00;G01B11/00;G03F9/00;G03F7/20;G03F7/16 |
| 代理公司： | 北京成创同维知识产权代理有限公司 11449 | 代理人： | 蔡纯;杨思雨 |
| 地址： | 430074 湖北省武汉*** | 国省代码： | 湖北;42 |
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| 摘要： | 本申请公开了一种匀胶显影系统、位置校准装置及其校准方法，该校准方法包括：获得晶片的实际中心点坐标；以及根据实际中心点坐标与理论中心点坐标控制机械手将晶片移动到预设位置，其中，获得晶片的实际中心点坐标的步骤包括：获取晶片的部分边缘的初始图像；根据初始图像识别晶片的边界，并判断部分边缘是否存在预设缺口；根据边界获得多个边界点坐标；以及根据判断结果计算实际中心点坐标，在判断结果为否的情况下，采用多个边界点坐标计算实际中心点坐标，在判断结果为是的情况下，获得位于预设缺口的边界点坐标并剔除，利用剩余边界点坐标计算实际中心点坐标。 | ||
| 搜索关键词： | 显影 系统 位置 校准 装置 及其 方法 | ||
【主权项】：
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