[发明专利]掩模版及其制备方法

摘要

本发明提供了一种掩模版及其制备方法，首先提供具有凹槽的底模，然后在凹槽中形成不透光层，接着在底模上形成透光过渡层并盖上透光基板，透光过渡层可作为透光基板与不透光层之间的粘合层，以利于底模离模，离模之后，形成所述掩模版。本发明中不透光层凸出于透光基板，利用所述掩模版对具有坑穴的基底进行曝光时，不透光层可伸进基底的坑穴中，从而减小与坑穴底部之间的距离，增大曝光后形成的图案的边缘的锐利度和清晰度，进而提高器件的精度和可靠性。