[发明专利]基于NiFe2 有效
| 申请号： | 202010867660.5 | 申请日： | 2020-08-26 |
| 公开（公告）号： | CN112071942B | 公开（公告）日： | 2022-04-12 |
| 发明（设计）人： | 胡继超;许蓓;贺小敏;王曦;李连碧 | 申请（专利权）人： | 西安千月电子科技有限公司 |
| 主分类号： | H01L31/105 | 分类号： | H01L31/105;H01L31/0336;H01L31/18 |
| 代理公司： | 西安弘理专利事务所 61214 | 代理人： | 韩玙 |
| 地址： | 710000 陕西省西安市高新区丈*** | 国省代码： | 陕西;61 |
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| 摘要： |
本发明公开了一种基于NiFe |
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| 搜索关键词： | 基于 nife base sub | ||
【主权项】：
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H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射，或微粒辐射敏感的，并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的，或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件；专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的，例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的，一个或多个电光源，如场致发光光源在结构上相连的，并与其电光源在电气上或光学上相耦合的
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