[发明专利]一种等离子体处理装置及气体供应方法在审
| 申请号： | 202010871863.1 | 申请日： | 2020-08-26 |
| 公开（公告）号： | CN114121585A | 公开（公告）日： | 2022-03-01 |
| 发明（设计）人： | 魏强 | 申请（专利权）人： | 中微半导体设备（上海）股份有限公司 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32;H01L21/67 |
| 代理公司： | 上海元好知识产权代理有限公司 31323 | 代理人： | 徐雯琼;章丽娟 |
| 地址： | 201201 上海市浦东新*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明公开一种等离子体处理装置及气体供应方法，等离子体处理装置包括反应腔，反应腔内设置基座，气体供应装置向反应腔内输送反应气体，气体供应装置包含气体总管道和多路气体分流输送管路，在多路气体分流输送管路上分别设置一流量控制阀，将多个流量控制阀的流量系数和电信号的对应关系存储到一控制器内；设定多路气体分流输送管路的目标气体流量的比例关系，控制器根据多路气体分流输送管路的流量比例输送对应的电信号至流量控制阀，以调节每个流量控制阀的阀开度。本发明能实现1分2路、1分3路甚至1分更多路，本发明在未设置流量反馈模块时仍能准确地分流，耗时很少，响应速度快，控制结果基本不受各阀门差异的影响，实用性强。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 等离子体 处理 装置 气体 供应 方法 | ||
【主权项】：
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