[发明专利]低方阻透明导电膜在审

专利信息
申请号: 202010880253.8 申请日: 2020-08-27
公开(公告)号: CN111916251A 公开(公告)日: 2020-11-10
发明(设计)人: 吕敬波;陈超;于佩强;刘世琴 申请(专利权)人: 江苏日久光电股份有限公司
主分类号: H01B5/14 分类号: H01B5/14
代理公司: 苏州科仁专利代理事务所(特殊普通合伙) 32301 代理人: 郭杨
地址: 215000 江苏省*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 发明公开了一种低方阻透明导电膜,包括由下往上层叠设置的透明基材、折射率匹配层、过渡层、金属合金层、介质阻隔层和透明导电层,在透明基材与金属合金层之间增加了一个由折射率匹配层与过渡层二者共同组合成的基材侧的水氧阻隔层,其中过渡层的目的是给上层的金属合金层提供一个致密连续的导电层衬底,减少薄层金属的岛状不连续现象,其与高折射率材料制成的折射率匹配层共同组合成基材侧的水氧阻隔层后,有效防止金属合金层在使用过程中劣化,使整体导电膜可靠性耐候性大幅提高。同时,本发明在金属合金层的空气侧,增加了一层分子结构致密的介质阻隔层,有效的隔绝了水氧侵蚀,使耐环测性大大提高。
搜索关键词: 低方阻 透明 导电
【主权项】:
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