[发明专利]提升静电吸盘使用寿命的方法有效
| 申请号： | 202010884946.4 | 申请日： | 2020-08-28 |
| 公开（公告）号： | CN111900120B | 公开（公告）日： | 2022-07-15 |
| 发明（设计）人： | 蒋燚 | 申请（专利权）人： | 上海华力微电子有限公司 |
| 主分类号： | H01L21/683 | 分类号： | H01L21/683 |
| 代理公司： | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人： | 曹廷廷 |
| 地址： | 201315*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种提升静电吸盘使用寿命的方法，包括：提供一工艺腔，包括位于工艺腔顶部的上电极和位于工艺腔底部的静电吸盘，所述上电极的表面附着有第一聚合物；对所述静电吸盘进行聚合物沉积工艺，以在所述静电吸盘的表面形成一保护层；在所述工艺腔内进行掺碳氮化硅的再生回收工艺，以使掺碳氮化硅与所述第一聚合物发生反应，生成第二聚合物并附着在所述保护层的表面；清洗所述工艺腔，以去除所述保护层和所述第二聚合物。本发明提供的提升静电吸盘使用寿命的方法可以有效去除附着在静电吸盘上的残留聚合物，从而避免静电吸盘因电阻下降导致的吸附能力减弱，提升静电吸盘的使用寿命。 | ||
| 搜索关键词： | 提升 静电 吸盘 使用寿命 方法 | ||
【主权项】：
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H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
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