[发明专利]一种光刻胶及其光刻工艺在审
| 申请号： | 202010886418.2 | 申请日： | 2020-08-28 |
| 公开（公告）号： | CN111983890A | 公开（公告）日： | 2020-11-24 |
| 发明（设计）人： | 王国秋;黄坚;陈璀 | 申请（专利权）人： | 湖南启泰传感科技有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/004 | 分类号： | G03F7/004;G03F7/022;G03F7/16;G03F7/40 |
| 代理公司： | 湖南兆弘专利事务所(普通合伙) 43008 | 代理人： | 朱伟雄 |
| 地址： | 410323 湖南省长*** | 国省代码： | 湖南;43 |
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| 摘要： | 本发明提供一种光刻胶，包括含酚树脂、溶剂和感光剂，其中溶剂为丙二醇甲醚醋酸脂与碳酸丙烯脂的混合溶剂。本发明还提供一种光刻胶的光刻工艺，包括：在基片衬底上喷涂本发明的光刻胶；将喷涂完光刻胶的基底进行真空干燥、烘烤、曝光和显影。本发明的光刻胶可以显著提升光刻胶的流平性，有效减轻光刻胶涂布后边缘堆积，解决基片衬底边缘光刻胶堆积导致的显影残留问题；本发明的光刻工艺能够改善光刻胶内部无规则的溢流，从而解决干燥后基底中间区域光刻胶膜厚均匀性差的问题，从而提升光刻胶的膜厚均匀性，提升芯片产品的性能。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 光刻 及其 工艺 | ||
【主权项】：
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