[发明专利]显示装置在审
申请号: | 202010886978.8 | 申请日: | 2020-08-28 |
公开(公告)号: | CN112447139A | 公开(公告)日: | 2021-03-05 |
发明(设计)人: | 渡边一德;川岛进;楠纮慈 | 申请(专利权)人: | 株式会社半导体能源研究所 |
主分类号: | G09G3/3225 | 分类号: | G09G3/3225;H01L27/15;H01L27/32 |
代理公司: | 中国贸促会专利商标事务所有限公司 11038 | 代理人: | 刘倜 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 提供一种容易实现高清晰化的显示装置。显示装置包括像素、第一布线及第二布线。像素包括第一至第四晶体管、第一电容器及发光元件。第一晶体管的源极和漏极中的一个与第一布线连接,其中另一个与第二晶体管的栅极及第一电容器连接。发光元件与第二晶体管的源极和漏极中的一个连接。第一布线被供应第一数据电位。第二布线在不同期间被供应第二数据电位和复位电位。第三晶体管将第二数据电位供应到第一电容器。第四晶体管将复位电位供应到发光元件。 | ||
搜索关键词: | 显示装置 | ||
【主权项】:
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于株式会社半导体能源研究所,未经株式会社半导体能源研究所许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/202010886978.8/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:检测体处理装置以及检测体处理方法
- 下一篇:覆铜层叠体及其制造方法