[发明专利]一种抗辐照的共岛LPNP和SPNP版图结构有效

专利信息
申请号: 202010889839.0 申请日: 2020-08-28
公开(公告)号: CN111968971B 公开(公告)日: 2023-06-06
发明(设计)人: 钟咏梅;刘鹏;方雷;尤路;魏海龙 申请(专利权)人: 西安微电子技术研究所
主分类号: H01L27/02 分类号: H01L27/02
代理公司: 西安通大专利代理有限责任公司 61200 代理人: 李鹏威
地址: 710065 陕西*** 国省代码: 陕西;61
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摘要: 一种抗辐照的共岛LPNP和SPNP版图结构,包括LPNP的基极、LPNP的集电极、LPNP的发射极、SPNP的发射极、基区复合墙、衬底、外延层沟道电阻和埋层;衬底的表面覆盖有外延层,外延层和衬底之间设置有埋层;外延层上排布有LPNP的基极、LPNP的集电极、LPNP的发射极、基区复合墙和SPNP的发射极;基区复合墙将共岛的LPNP和SPNP分隔形成LPNP隔离岛和SPNP隔离岛,LPNP隔离岛和SPNP隔离岛之间通过外延层连通,形成外延层沟道电阻;LPNP的基极B通过外延层连接外延沟道电阻的一端,外延沟道电阻的另一端连接SPNP的基极。有效提高SPNP的电流放大倍数,提升抗辐照性能,并节约版图面积。该版图结构可推广应用于任一款低压抗辐照双极电路版图设计,有效降低芯片版图面积并提升抗辐照性能。
搜索关键词: 一种 辐照 lpnp spnp 版图 结构
【主权项】:
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