[发明专利]一种用于毫米波段的双工器及其制备方法有效

专利信息
申请号: 202010897760.2 申请日: 2020-08-31
公开(公告)号: CN112259942B 公开(公告)日: 2021-09-07
发明(设计)人: 刘慧梁;李殷乔;蔡亚星;姚远;韩慧鹏;白博;杨清龙;赵光 申请(专利权)人: 中国空间技术研究院
主分类号: H01P1/213 分类号: H01P1/213;H01P1/207;H01P11/00
代理公司: 中国航天科技专利中心 11009 代理人: 王永芳
地址: 100194 *** 国省代码: 北京;11
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摘要: 本申请公开了一种用于毫米波段的双工器及其制备方法,该方法包括:根据预设的滤波器波导结构的高度确定硅片的层数,通过深层反应离子刻蚀DRIE技术将每层所述硅片进行刻蚀加工得到刻蚀后的硅片;通过键合技术将所述刻蚀后的硅片进行键合形成三维堆栈式结构,以及通过深层微电铸技术对所述三维堆栈式结构进行金属电铸,并在电铸后去除硅片得到由金属组成的微复制模具;根据所述微复制模具对塑料进行加工得到波导腔体,以及在所述波导腔体内壁电镀金属层得到双工器。本申请解决了现有技术中制备双工器的精度较低的问题。
搜索关键词: 一种 用于 毫米 波段 双工器 及其 制备 方法
【主权项】:
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