[发明专利]反射面以及具有该反射面的紧缩场测量系统在审
| 申请号： | 202010900054.9 | 申请日： | 2020-08-31 |
| 公开（公告）号： | CN112003025A | 公开（公告）日： | 2020-11-27 |
| 发明（设计）人： | 漆一宏;刘列;吴济宇;张颖;蔡张华;张辉彬 | 申请（专利权）人： | 深圳市通用测试系统有限公司 |
| 主分类号： | H01Q15/14 | 分类号： | H01Q15/14;H01Q17/00;G01R29/10 |
| 代理公司： | 北京清亦华知识产权代理事务所(普通合伙) 11201 | 代理人： | 张大威 |
| 地址： | 518102 广东省深圳市*** | 国省代码： | 广东;44 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本公开提供了一种反射面以及具有该反射面的紧缩场测量系统。其中，该反射面包括：工作面，用于将馈源天线发射的球面电磁波经反射后转换为平面电磁波；吸波结构，吸波结构采用电磁波吸收材料，吸波结构设置在工作面的边缘，用于降低工作面的边缘散射。本公开实施例的反射面可用于紧缩场测量系统。本公开实施例可以降低边缘散射，改善紧缩场测量系统的静区性能。 | ||
| 搜索关键词： | 反射 以及 具有 紧缩 测量 系统 | ||
【主权项】：
暂无信息
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