[发明专利]对准标记及用于形成对准标记的方法在审
| 申请号： | 202010908840.3 | 申请日： | 2020-09-02 |
| 公开（公告）号： | CN112578648A | 公开（公告）日： | 2021-03-30 |
| 发明（设计）人： | 刘彦岑;于正豪;黄正义;石兆立;杨志深 | 申请（专利权）人： | 台湾积体电路制造股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F9/00 | 分类号： | G03F9/00 |
| 代理公司： | 南京正联知识产权代理有限公司 32243 | 代理人： | 王素琴 |
| 地址： | 中国台湾新竹科*** | 国省代码： | 台湾;71 |
| 权利要求书： | 暂无信息 | 说明书： | 暂无信息 |
| 摘要： | 提供对准标记及用于形成对准标记的方法。用于形成对准标记的方法为无光刻工艺并且包含以下操作。提供激光束。将激光束划分成彼此隔开的多个激光束。将多个激光束塑形成多个图案化光束，使得多个图案化光束塑形为具有对应于对准标记的图案。将多个图案化光束投影到半导体晶片上。 | ||
| 搜索关键词： | 对准 标记 用于 形成 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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