[发明专利]玻璃基材真空磁控溅射镀铜方法

摘要

本发明属于真空溅射方法技术领域，具体的涉及一种玻璃基材真空磁控溅射镀铜方法。玻璃经振荡清洗后高温烘干，然后将玻璃挂在真空磁控溅射反应炉的转架上；玻璃随真空磁控溅射反应炉的转架进行圆周旋转，通入氩气，调节真空度至1.2‑1.8×10‑1pa，对玻璃进行离子源清洗；通入氮气，维持真空度在1.2‑1.9×10‑1pa，打开偏压电源，进行反应溅射镀；关闭SiAl靶材直流控制电源，调节真空度至1.2‑1.8×10‑1pa，然后打开铜靶材直流控制电源，进行磁控溅射镀铜，最后经后处理即得到镀铜玻璃。本发明所述的玻璃基材真空磁控溅射镀铜方法，参数设计合理，易于操作，易于实现工业化生产，且制备的薄膜附着性好。