[发明专利]垂直腔面发射激光器及制作方法、耦合装置及制作方法有效

专利信息
申请号: 202010912534.7 申请日: 2020-09-03
公开(公告)号: CN111817134B 公开(公告)日: 2021-02-02
发明(设计)人: 陈志标;韩宇 申请(专利权)人: 武汉云岭光电有限公司
主分类号: H01S5/183 分类号: H01S5/183;H01S5/187;H01S5/12
代理公司: 北京汇泽知识产权代理有限公司 11228 代理人: 胡建文
地址: 430223 湖北省武汉市东湖新技术开发*** 国省代码: 湖北;42
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摘要: 发明涉及一种垂直腔面发射激光器的制作方法,包括S1~S4步骤。还提供一种垂直腔面发射激光器,包括第一衬底、于第一衬底上制作的中间层、第二衬底以及用于对光束的相位进行调控以实现光束的倾斜出射的非晶硅超表面结构。还提供一种耦合装置,包括耦合光栅以及上述的垂直腔面发射激光器,垂直腔面发射激光器具有非晶硅超表面结构的一侧正对耦合光栅,且垂直腔面发射激光器通过连接层与耦合光栅连接。还提供一种耦合装置的制作方法,包括Sa~Sc步骤。本发明通过集成在垂直腔面发射激光器上的非晶硅超表面结构对光束的相位进行调控,满足耦合光栅最佳耦合角度的要求,实现光束的倾斜出射,从根本上解决了传统耦合光栅器件封装与对准技术难题。
搜索关键词: 垂直 发射 激光器 制作方法 耦合 装置
【主权项】:
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