[发明专利]一种天波雷达电离层污染校正方法及系统在审

专利信息
申请号: 202010912549.3 申请日: 2020-09-03
公开(公告)号: CN112014813A 公开(公告)日: 2020-12-01
发明(设计)人: 薛永华;张海;陈小龙;黄勇;张林 申请(专利权)人: 中国人民解放军海军航空大学
主分类号: G01S7/40 分类号: G01S7/40
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 264001 山东省烟*** 国省代码: 山东;37
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摘要: 发明涉及一种天波雷达电离层污染校正方法及系统。本发明根据电离层污染的特点选取样条函数作为参数化时频变换的核函数,针对电离层污染后的信号估计核函数参数,利用核函数来估计污染序列,进行污染校正。对于多模传播条件下的电离层污染,采用校正后滤除的方式,多次迭代完成污染的校正。采用本发明所提供的天波雷达电离层污染校正方法及系统,能够适用于多模情形下的污染,提高校正精度。
搜索关键词: 一种 天波 雷达 电离层 污染 校正 方法 系统
【主权项】:
暂无信息
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