[发明专利]一种单层或少层石墨烯的超临界剥离工艺在审
申请号: | 202010915577.0 | 申请日: | 2020-09-03 |
公开(公告)号: | CN111908456A | 公开(公告)日: | 2020-11-10 |
发明(设计)人: | 胡勇刚 | 申请(专利权)人: | 胡勇刚 |
主分类号: | C01B32/19 | 分类号: | C01B32/19 |
代理公司: | 北京权智天下知识产权代理事务所(普通合伙) 11638 | 代理人: | 王新爱 |
地址: | 510000 广东省*** | 国省代码: | 广东;44 |
权利要求书: | 暂无信息 | 说明书: | 暂无信息 |
摘要: |
一种单层或少层石墨烯的超临界剥离工艺,公开了一种超临界剥离单层或少层石墨烯的装置,包括干燥釜和喷嘴。采用超临界CO |
||
搜索关键词: | 一种 单层 石墨 临界 剥离 工艺 | ||
【主权项】:
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于胡勇刚,未经胡勇刚许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/202010915577.0/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种燃烧器
- 下一篇:一种医学美容科用疤痕去除装置