[发明专利]一种用于新型流体动压抛光研究的实验平台在审
| 申请号： | 202010921104.1 | 申请日： | 2020-09-04 |
| 公开（公告）号： | CN111915977A | 公开（公告）日： | 2020-11-10 |
| 发明（设计）人： | 文东辉;许鑫祺;章益栋;沈思源;王辉 | 申请（专利权）人： | 浙江工业大学 |
| 主分类号： | G09B25/02 | 分类号： | G09B25/02 |
| 代理公司： | 浙江千克知识产权代理有限公司 33246 | 代理人： | 周希良 |
| 地址： | 310014 浙*** | 国省代码： | 浙江;33 |
| 权利要求书： | 暂无信息 | 说明书： | 暂无信息 |
| 摘要： | 本发明涉及一种用于新型流体动压抛光研究的实验平台，包括机床、抛光辊子、进给单元、传感器。抛光辊子安装在机床上，进给单元包括往复进给机构、第一微进给机构、第二微进给机构；往复进给机构驱动工件往复运动均匀抛光，第一和第二微进给机构的位移可精确调整被夹持工件与抛光辊子的高度差及间距，形成微小间隙；传感器包括电涡流位移传感器和压力传感器，电涡流位移传感器用于检测工件与抛光辊子的间距，压力传感器用于实时监测抛光加工流体动压力。该实验平台各机构设计完善，辅以位移、压力测控系统，各工艺参数柔性可调，可实现流体动压抛光波纹度机理与控制的深入研究。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 用于 新型 流体 抛光 研究 实验 平台 | ||
【主权项】：
暂无信息
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