[发明专利]曝光装置以及物品制造方法在审
| 申请号： | 202010922291.5 | 申请日： | 2020-09-04 |
| 公开（公告）号： | CN112445082A | 公开（公告）日： | 2021-03-05 |
| 发明（设计）人： | 河野道生 | 申请（专利权）人： | 佳能株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 中国贸促会专利商标事务所有限公司 11038 | 代理人： | 程晨 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 提供对投影光学系统中的凹面镜的小型化有利的曝光装置以及物品制造方法。提供一边对掩模及基板进行扫描一边对所述基板进行曝光的曝光装置。所述曝光装置具有将所述掩模的图案投影到所述基板的投影光学系统。所述投影光学系统构成为包括第1凹面镜、凸面镜以及第2凹面镜，透过所述掩模的图案的光按照所述第1凹面镜、所述凸面镜以及所述第2凹面镜的顺序反射。在将利用来自所述掩模上的圆弧状的照明区域的所有物点的光束在所述第1凹面镜或所述第2凹面镜上形成的有效区域和与所述投影光学系统的光轴正交且在与所述基板平行的方向上延伸的直线的最小接近距离设为D、将形成于所述基板上的所述圆弧的最外周半径设为Ru时，满足0D0.1·RU的条件。 | ||
| 搜索关键词： | 曝光 装置 以及 物品 制造 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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