[发明专利]一种掩模板、背板、背光源以及背板制作方法有效
申请号: | 202010922471.3 | 申请日: | 2020-09-04 |
公开(公告)号: | CN112015043B | 公开(公告)日: | 2023-07-18 |
发明(设计)人: | 徐文结;郭总杰;王静;谢晓冬;储微微;於飞飞 | 申请(专利权)人: | 合肥鑫晟光电科技有限公司;京东方科技集团股份有限公司 |
主分类号: | G03F1/00 | 分类号: | G03F1/00;G03F7/00;G03F7/004;G09F9/00 |
代理公司: | 北京正理专利代理有限公司 11257 | 代理人: | 付生辉 |
地址: | 230011 安徽*** | 国省代码: | 安徽;34 |
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摘要: | 本发明公开了一种掩模板、背板、背光源以及背板制作方法,所述掩模板,包括阵列排布的多个掩模结构;按照预设方向串联各行或列的掩模结构的第一掩模结构线,以及至少一个与所述第一掩模结构线对应设置的第二掩模结构线,所述第二掩模结构线串联部分由所述第一掩模结构线串联的掩模结构。本发明提供的实施例通过在第一掩模结构线的基础上增加至少一条第二掩模结构线,通过第二掩模结构线部分串联掩模结构,使得在玻璃基板的无效区形成的与第二掩模结构线对应的第二数据线能够有效串联与掩模结构对应的焊盘,从而将无效基板转化成电性连接的有效基板,提高了玻璃基板的有效利用率,降低玻璃基板成本,具有广泛的应用前景。 | ||
搜索关键词: | 一种 模板 背板 背光源 以及 制作方法 | ||
【主权项】:
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G03 摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备
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