[发明专利]一种测量风洞流场附面层密度场的环路剪切干涉系统在审

专利信息
申请号: 202010923058.9 申请日: 2020-09-04
公开(公告)号: CN112113738A 公开(公告)日: 2020-12-22
发明(设计)人: 蒲泓宇;付泰;顾瑞田;刘常青;荣祥森;潘攀;鲁科良 申请(专利权)人: 中国空气动力研究与发展中心高速空气动力研究所
主分类号: G01M9/06 分类号: G01M9/06;G01J9/02
代理公司: 成都东恒知盛知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 51304 代理人: 何健雄;廖祥文
地址: 621000 *** 国省代码: 四川;51
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摘要: 发明公开一种测量风洞流场附面层密度场的环路剪切干涉系统,所述风洞内具有测试区域,测试区域两侧的风洞壁上对称设置有光学窗口,其特征在于,包括基板,以及沿光束路径依次设置的:脉冲激光器、第一平面反射镜、准直扩束器、分束棱镜、第二平面反射镜、环路径向剪切干涉系统、镜头及CCD相机、同步控制器;采用共光路结构,易于在附面层测量环境下布局使用,利用基于空间位相调制的快速算法,可以对附面层流场进行动态实时检测。该系统波前检测精度高,抗噪抗干扰性能良好,试验表明,0.7马赫数以下,可抑制气流振动干扰,显著区分出扰流与背景,在流场测量这种实时性要求比较高的场合有广泛的应用前景。
搜索关键词: 一种 测量 风洞 附面层 密度 环路 剪切 干涉 系统
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