[发明专利]表征微光刻掩模的装置和方法，以及表征物体的装置在审
| 申请号： | 202010925596.1 | 申请日： | 2020-09-04 |
| 公开（公告）号： | CN112445083A | 公开（公告）日： | 2021-03-05 |
| 发明（设计）人： | S.马丁;T.弗兰克;U.马泰杰卡 | 申请（专利权）人： | 卡尔蔡司SMT有限责任公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G03F1/84;G02B5/30 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人： | 王蕊瑞 |
| 地址： | 德国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明涉及表征微光刻掩模的装置和方法。根据本发明的装置具有：照明光学单元(310)，用于照明旨在于在微光刻投射曝光设备中的光刻工艺中使用的掩模(321)的结构；检测器单元(100，200，340)；以及评估单元(350)，用于评估由检测器单元(100，200，340)记录的数据；其中，检测器单元(100，200，340)配置为空间分辨地确定从掩模(321)发出的相应照射光的强度和偏振态二者。 | ||
| 搜索关键词： | 表征 微光 刻掩模 装置 方法 以及 物体 | ||
【主权项】：
暂无信息
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