[发明专利]用于处理基板的装置和方法在审
申请号: | 202010925720.4 | 申请日: | 2020-09-04 |
公开(公告)号: | CN112439737A | 公开(公告)日: | 2021-03-05 |
发明(设计)人: | 李茂贤;方炳善;金俙焕 | 申请(专利权)人: | 细美事有限公司 |
主分类号: | B08B3/02 | 分类号: | B08B3/02;B08B3/08;B08B13/00;H01L21/67 |
代理公司: | 北京市中伦律师事务所 11410 | 代理人: | 杨黎峰;赵瑞 |
地址: | 韩国忠*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 一种用于处理基板的方法,包括:液体处理步骤,其通过将处理液分配到旋转的基板上而对所述基板执行液体处理;以及清洁步骤,其停止分配所述处理液并将清洁溶液分配到所述基板上。在所述清洁步骤中,将第一液体从旋转的基板上方的第一喷嘴分配到在第一方向上与所述基板的中心隔开的点,并且将第二液体从旋转的基板上方的第二喷嘴分配到在第二方向上与所述基板的中心隔开的点。当从上方观察时,所述第一液体在分配到所述基板上后朝向所述第二喷嘴流动,并且所述第二液体在分配到所述基板上后朝向所述第一喷嘴流动。 | ||
搜索关键词: | 用于 处理 装置 方法 | ||
【主权项】:
暂无信息
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