[发明专利]具有纳米多孔结构的气敏传感器元件的制备方法在审

专利信息
申请号: 202010930688.9 申请日: 2020-09-07
公开(公告)号: CN112213364A 公开(公告)日: 2021-01-12
发明(设计)人: 张清;周李兵;王海波;郝叶军;贺耀宜;胡文涛;王小蕾;张一波;赵立厂;屈世甲;黄小明 申请(专利权)人: 天地(常州)自动化股份有限公司;中煤科工集团常州研究院有限公司
主分类号: G01N27/12 分类号: G01N27/12
代理公司: 常州至善至诚专利代理事务所(普通合伙) 32409 代理人: 赵旭
地址: 213100 江苏*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 发明公开了一种具有纳米多孔结构的气敏传感器元件的制备方法,包括以下步骤:S1、将聚合物覆膜自组装在覆盖在微加热平台的叉指电极上,得到叉指电极经过覆膜的模板基础层;S2、采用纳米压印方法得到规整的纳米模板结构,纳米模板结构具有纳米多孔阵列结构层,纳米模板结构上残留有残余模板剂;S3、去除纳米压印残留层以使叉指电极层裸露在空气层且成为气敏材料成膜载体;S4、在气敏材料成膜载体上制备金属离子掺杂氧化物薄膜作为气体敏感材料层;S5、对残余模板剂,得到具有纳米多孔结构的气敏传感器元件。该制备方法兼具经济性和环境友好型,具有可制造性和复制性较好的优点,对CH4、CO、H2、NO等有毒有害气体的检测具有高灵敏性、快速响应的特点。
搜索关键词: 具有 纳米 多孔 结构 传感器 元件 制备 方法
【主权项】:
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