[发明专利]金属基材碳纳米膜材料制造设备及其制备方法有效
申请号: | 202010934100.7 | 申请日: | 2020-09-08 |
公开(公告)号: | CN111893455B | 公开(公告)日: | 2023-10-03 |
发明(设计)人: | 王亚普;刘铁林;高硕;欧阳光友;田霆;王海涛;刘红涛;李来喜;赵建泽;繆建峰;黎明;孙福亭 | 申请(专利权)人: | 河北美普兰地环保科技有限公司 |
主分类号: | C23C16/26 | 分类号: | C23C16/26;C23C16/503 |
代理公司: | 北京圣州专利代理事务所(普通合伙) 11818 | 代理人: | 王振佳 |
地址: | 071000 河北省保定市新市区*** | 国省代码: | 河北;13 |
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摘要: |
本发明公开了一种金属基材碳纳米膜材料制造设备包括真空反应炉、高频电源、供气装置以及抽真空装置,同时还公开基于上述设备的金属基材碳纳米膜制备方法,利用碳元素化学气相沉积法及碳元素磁控溅射法在金属基材表面生成一层具有SP |
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搜索关键词: | 金属 基材 纳米 材料 制造 设备 及其 制备 方法 | ||
【主权项】:
暂无信息
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的