[发明专利]一种用于眼晶体剂量计校准的模型与方法在审
| 申请号： | 202010934264.X | 申请日： | 2020-09-08 |
| 公开（公告）号： | CN112346109A | 公开（公告）日： | 2021-02-09 |
| 发明（设计）人： | 卫晓峰;刘立业;曹勤剑;焦岩;赵原;肖运实;熊万春;李晓敦;金成赫;夏三强;汪屿;赵日;刘一聪 | 申请（专利权）人： | 中国辐射防护研究院 |
| 主分类号： | G01T7/00 | 分类号： | G01T7/00 |
| 代理公司： | 北京天悦专利代理事务所(普通合伙) 11311 | 代理人： | 田明;戴威 |
| 地址： | 030006 山*** | 国省代码： | 山西;14 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种用于眼晶体剂量计校准的模型与方法，方法包括：步骤1.建立眼晶体剂量计刻度与试验的模型，模型设计为椭圆柱型；步骤2.将剂量计紧贴放于模型表面，剂量计放置于模型左侧距离长轴垂直距离3厘米的位置；步骤3.使用光子平行辐射束照射模型，并进行各种测试、试验、校准或模拟仿真；步骤4.以照射真值为准，结合眼晶体剂量当量对空气比释动能的剂量转换系数Hp(3)/Ka和剂量计示数，完成测试、试验、校准或模拟仿真。本发明的眼晶体剂量计刻度模型的结构和尺寸与人头部真实情况更为接近，能更好的反映头部对光子的吸收与散射情况，有助于进一步完善眼晶体剂量监测、评价与辐射防护工作。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 用于 晶体 剂量计 校准 模型 方法 | ||
【主权项】：
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