[发明专利]一种S面涂布结构优化的高分子膜网版在审

专利信息
申请号: 202010934828.X 申请日: 2020-09-08
公开(公告)号: CN111923629A 公开(公告)日: 2020-11-13
发明(设计)人: 史建新 申请(专利权)人: 沃苏特电子科技(苏州)有限公司
主分类号: B41N1/04 分类号: B41N1/04;B41N1/00;B41C1/14
代理公司: 苏州言思嘉信专利代理事务所(普通合伙) 32385 代理人: 邵永永
地址: 215000 江苏省*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 发明公开了一种S面涂布结构优化的高分子膜网版,包括网框,网框内部为凹面结构,凹面结构上设置有聚酯网层,聚酯网层上部且位于凹面结构内设置有钢丝网层,钢丝网层上设置有高分子膜层,高分子膜层上设置有乳剂层,聚酯网层的边界轮廓形状与钢丝网层的边界轮廓形状一致,聚酯网层与钢丝网层之间设置有热熔胶层,聚酯网层与钢丝网层通过热熔胶复合到一起。本发明的有益效果是,通过此乳剂层,有效的改善了印刷高度不足的问题,也提高了网版的印刷效率,在S面涂覆乳剂,也增加了网版S面的耐磨性,提升网版使用寿命,此外,增加乳剂层,也降低了印刷刮刀的磨损度,延长了刮刀使用周期,降低了客户的生产成本。
搜索关键词: 一种 面涂布 结构 优化 高分子 膜网版
【主权项】:
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