[发明专利]柔性基板的阻挡层及其制造方法在审

专利信息
申请号: 202010937247.1 申请日: 2020-09-08
公开(公告)号: CN112652847A 公开(公告)日: 2021-04-13
发明(设计)人: 米奇·特里夫诺维奇;阿迪提·钱德拉;罗伯特·富勒;雷蒙德·瓦斯;帕特丽夏·贝克;马奥·埃提欧;阿尔温德·卡马特 申请(专利权)人: 薄膜电子有限公司
主分类号: H01M50/24 分类号: H01M50/24;H01M50/222;H01M50/244;H01M10/0525;H01M10/0585;H01L23/00;H01L23/14;H01L23/60;H01L21/48
代理公司: 四川力久律师事务所 51221 代理人: 韩洋
地址: 挪威奥*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明的实施例涉及用于支撑电子和/或微机电系统(MEMS)设备的柔性基板的多层阻挡层。设备包括:基板、第一金属氮化物层、在第一金属氮化物层之上的第一氧化物层、在第一氧化物层之上的第二金属氮化物层和第二氧化物层、以及在第一氧化物层之上或在第一和第二氧化物层之上的器件层。当器件层在第一氧化物层之上时,第二金属氮化物层在器件层之上,而第二氧化物层在第二金属氮化物层之上。当器件层在第一和第二氧化物层之上时,第二金属氮化物层在第二氧化物层之上。本发明还公开了一种制造上述设备的方法。
搜索关键词: 柔性 阻挡 及其 制造 方法
【主权项】:
暂无信息
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