[发明专利]一种聚焦离子束辅助沉积加工的结构高度计算方法有效
| 申请号： | 202010941006.4 | 申请日： | 2020-09-09 |
| 公开（公告）号： | CN112214871B | 公开（公告）日： | 2022-11-01 |
| 发明（设计）人： | 幸研;方晨;吴国荣 | 申请（专利权）人： | 东南大学 |
| 主分类号： | G06F30/20 | 分类号： | G06F30/20;G06F113/08;G06F111/08;G06F119/02 |
| 代理公司： | 北京德崇智捷知识产权代理有限公司 11467 | 代理人： | 季承 |
| 地址： | 211100 江*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种聚焦离子束辅助沉积加工的结构高度计算方法，该方法包括：在前驱气体扩散模型中添加以下属性：是否扩散指数if_diff，前驱气体吸附概率pres；在连续元胞自动机内捕捉已有结构的轮廓，并将其对应在前驱气体扩散模型中的单元属性的是否扩散指数置为0；根据已有结构轮廓，和气相管参数，确定阴影遮挡区域；在阴影遮挡区域内，生成阴影遮挡区域函数，改变前驱气体吸附概率；在前驱气体扩散模型中，分别计算前驱气体吸附，扩散，分解，自解吸；生成阴影效应下的离子束照射区域内的前驱气体分布；计算加工结构受到阴影效应影响的条件尺寸；将阴影效应进行可视化。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 聚焦 离子束 辅助 沉积 加工 结构 高度 计算方法 | ||
【主权项】：
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