[发明专利]一种等离子喷涂制备羟基磷灰石涂层的方法有效
申请号: | 202010943462.2 | 申请日: | 2020-09-09 |
公开(公告)号: | CN112176272B | 公开(公告)日: | 2022-03-01 |
发明(设计)人: | 高鹏飞;何雨星;彭福维;朱环宇;干明珠 | 申请(专利权)人: | 西南科技大学 |
主分类号: | C23C4/04 | 分类号: | C23C4/04;C23C4/134 |
代理公司: | 成都东恒知盛知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 51304 | 代理人: | 何健雄;廖祥文 |
地址: | 621010 四川*** | 国省代码: | 四川;51 |
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摘要: | 本发明公开了一种等离子喷涂制备羟基磷灰石涂层的方法,包括以下步骤:S1、制备粉末;S2、对步骤S1所得的粉末进行干燥处理;S3、将基体进行去油、喷砂、清洗及干燥处理;S4、采用等离子喷涂法将干燥处理后的粉末沉积在经步骤S3处理后并加载有一定磁感应强度磁场的基体材料上,即得涂层。本发明通过在等离子喷涂过程中对基体加载一定磁感应强度磁场,由于磁场的作用抑制了羟基磷灰石熔滴的分解,促进了涂层的晶化,所得涂层的晶化程度也有显著提高,涂层的生物活性也得到了较大程度的提高,在模拟体液浸泡过程中钙、磷元素更易于与涂层间产生离子交换且涂层性能稳定不易溶解,且工艺制备过程简单,易于实现,极大的降低了成本。 | ||
搜索关键词: | 一种 等离子 喷涂 制备 羟基 磷灰石 涂层 方法 | ||
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C4-00 熔融态覆层材料喷镀法,例如火焰喷镀法、等离子喷镀法或放电喷镀法的镀覆
C23C4-02 .待镀材料的预处理,例如为了在选定的表面区域镀覆
C23C4-04 .以镀覆材料为特征的
C23C4-12 .以喷镀方法为特征的
C23C4-18 .后处理
C23C4-14 ..用于长形材料的镀覆
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