[发明专利]一种具有表面阵列凸台结构的SiC电容压力传感器及制备方法在审

专利信息
申请号: 202010945844.9 申请日: 2020-09-10
公开(公告)号: CN112033583A 公开(公告)日: 2020-12-04
发明(设计)人: 周圣军;万泽洪;雷宇 申请(专利权)人: 武汉大学
主分类号: G01L1/14 分类号: G01L1/14;G01L9/12
代理公司: 湖北武汉永嘉专利代理有限公司 42102 代理人: 王丹
地址: 430072 湖*** 国省代码: 湖北;42
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明提供一种具有表面阵列凸台结构的SiC电容压力传感器及制备方法,它包括SiC衬底,SiC衬底上依次形成的p型SiC层、SiC下极板、绝缘层和SiC上极板,以及电路连接结构;SiC下极板包括圆形下极板基体,和下极板基体的上表面设置的凹槽阵列;SiC上极板包括圆形上极板基体和凸台阵列;上极板基体罩在下极板基体上,上极板基体的下表面与绝缘层的上表面之间构成空腔,且凸台阵列与凹槽阵列相匹配。在SiC上极板表面采用凸台阵列,在保证结构可靠性的前提下,减小基体圆形薄膜的厚度,从而获得更高的线性度;凸台阵列与凹槽阵列相配合,在传感器工作时上极板凸台侧壁与下极板凹槽侧壁的正对面积增大,产生额外的电容增量,大大增加传感器工作时的灵敏度。
搜索关键词: 一种 具有 表面 阵列 结构 sic 电容 压力传感器 制备 方法
【主权项】:
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于武汉大学,未经武汉大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/202010945844.9/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top