[发明专利]一种具有表面阵列凸台结构的SiC电容压力传感器及制备方法在审
申请号: | 202010945844.9 | 申请日: | 2020-09-10 |
公开(公告)号: | CN112033583A | 公开(公告)日: | 2020-12-04 |
发明(设计)人: | 周圣军;万泽洪;雷宇 | 申请(专利权)人: | 武汉大学 |
主分类号: | G01L1/14 | 分类号: | G01L1/14;G01L9/12 |
代理公司: | 湖北武汉永嘉专利代理有限公司 42102 | 代理人: | 王丹 |
地址: | 430072 湖*** | 国省代码: | 湖北;42 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明提供一种具有表面阵列凸台结构的SiC电容压力传感器及制备方法,它包括SiC衬底,SiC衬底上依次形成的p型SiC层、SiC下极板、绝缘层和SiC上极板,以及电路连接结构;SiC下极板包括圆形下极板基体,和下极板基体的上表面设置的凹槽阵列;SiC上极板包括圆形上极板基体和凸台阵列;上极板基体罩在下极板基体上,上极板基体的下表面与绝缘层的上表面之间构成空腔,且凸台阵列与凹槽阵列相匹配。在SiC上极板表面采用凸台阵列,在保证结构可靠性的前提下,减小基体圆形薄膜的厚度,从而获得更高的线性度;凸台阵列与凹槽阵列相配合,在传感器工作时上极板凸台侧壁与下极板凹槽侧壁的正对面积增大,产生额外的电容增量,大大增加传感器工作时的灵敏度。 | ||
搜索关键词: | 一种 具有 表面 阵列 结构 sic 电容 压力传感器 制备 方法 | ||
【主权项】:
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于武汉大学,未经武汉大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/202010945844.9/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种辅助转眼运动的方法及系统
- 下一篇:电阻及其封装方法