[发明专利]氮掺杂p型透明导电BeZnOS薄膜及其制备方法和应用有效

专利信息
申请号: 202010947157.0 申请日: 2020-09-10
公开(公告)号: CN112195438B 公开(公告)日: 2022-02-22
发明(设计)人: 何云斌;汪洋;黎明锴;李磊;卢寅梅;尹魏玲;李派;常钢;陈俊年;尹向阳;郭启利;李永昌 申请(专利权)人: 湖北大学;广州金升阳科技有限公司
主分类号: C23C14/06 分类号: C23C14/06;C23C14/28;C23C14/58
代理公司: 北京金智普华知识产权代理有限公司 11401 代理人: 杨采良
地址: 430062 湖北*** 国省代码: 湖北;42
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摘要: 发明提供了一种氮掺杂p型透明导电BeZnOS薄膜及其制备方法和应用,该制备方法,包括:制备BeZnOS陶瓷靶材;提供衬底,将衬底置于脉冲激光沉积系统真空腔体中,向真空腔体中通入一氧化氮气体,利用BeZnOS陶瓷靶材,采用脉冲激光烧蚀沉积的方法在衬底上进行氮掺杂的BeZnOS薄膜的生长;将得到的氮掺杂的BeZnOS薄膜于温度为400~750℃下退火,即得氮掺杂p型透明导电BeZnOS薄膜。本发明的制备方法,在ZnO中掺入Be和S形成BeZnOS合金可以连续调节其能带结构和电子结构同时又能保持ZnO的六方结构,更稳定的Be‑N键和更高的价带顶可以降低No的能级,提高No的稳定性。
搜索关键词: 掺杂 透明 导电 beznos 薄膜 及其 制备 方法 应用
【主权项】:
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