[发明专利]处理系统、处理方法以及存储介质有效
| 申请号： | 202010951919.4 | 申请日： | 2020-09-11 |
| 公开（公告）号： | CN112619918B | 公开（公告）日： | 2022-07-12 |
| 发明（设计）人： | 织田达广 | 申请（专利权）人： | 株式会社东芝 |
| 主分类号： | B05B7/14 | 分类号： | B05B7/14;B05B12/08 |
| 代理公司： | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人： | 杨谦 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明的实施方式涉及处理系统、处理方法以及存储介质。本发明提供能够谋求膜的厚度的均匀化的处理系统、处理方法以及存储介质。实施方式的处理系统具备：腔室，能够在内部收纳处理物；供给部，能够向所述腔室的内部供给多个粒子与气体；检测部，能够检测所述处理物附近的气流的状态；以及控制器，能够基于来自所述检测部的检测值来控制所述供给部。所述控制器基于与气流的稳定状态相关的数据和来自所述检测部的检测值，判断漩涡的产生，在判断为产生了所述漩涡的情况下，控制所述供给部停止所述多个粒子的供给。 | ||
| 搜索关键词： | 处理 系统 方法 以及 存储 介质 | ||
【主权项】：
暂无信息
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