[发明专利]光栅位移测量方法有效
| 申请号： | 202010953614.7 | 申请日： | 2020-09-11 |
| 公开（公告）号： | CN112097648B | 公开（公告）日： | 2022-05-27 |
| 发明（设计）人： | 李文昊;刘兆武;于宏柱;王玮;吉日嘎兰图;姚雪峰 | 申请（专利权）人： | 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 |
| 主分类号： | G01B11/02 | 分类号： | G01B11/02;G02B27/28 |
| 代理公司： | 深圳市科进知识产权代理事务所(普通合伙) 44316 | 代理人： | 曹卫良 |
| 地址： | 130033 吉林省长春*** | 国省代码： | 吉林;22 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明提供一种光栅位移测量方法，包括：S1、通过光源发出线偏振光，经准直后出射到光学结构上；S2、通过光学结构将线偏振光垂直入射到测量光栅的表面，并将衍射后产生携带测量信息的±1级衍射光入射至两组分束结构；S3、通过两组分束结构对±1级衍射光进行分束，产生相位为0°、90°、180°、270°的四路干涉信号传输到光电接收模块；S4、通过光电接收模块接收四路干涉信号，在进行光电转换后传输到信号处理系统；S5、通过信号处理系统用于对四路干涉信号进行相移计算，获得测量光栅的位移量。本发明将零差干涉与转向干涉方法相结合，优化读数头中的结构，运用此测量方法能够使光栅位移测量装置的结构更加紧凑、电子元件集中、扩展性强。 | ||
| 搜索关键词： | 光栅 位移 测量方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国科学院长春光学精密机械与物理研究所，未经中国科学院长春光学精密机械与物理研究所许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/202010953614.7/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：外差光栅位移测量装置
- 下一篇：外差光栅位移测量光学系统
