[发明专利]外差二维光栅位移测量系统及测量方法有效
| 申请号： | 202010953663.0 | 申请日： | 2020-09-11 |
| 公开（公告）号： | CN112097651B | 公开（公告）日： | 2022-07-22 |
| 发明（设计）人： | 刘兆武;李文昊;吉日嘎兰图;于宏柱;王玮;姚雪峰;尹云飞 | 申请（专利权）人： | 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 |
| 主分类号： | G01B11/02 | 分类号： | G01B11/02;G02B27/28 |
| 代理公司： | 深圳市科进知识产权代理事务所(普通合伙) 44316 | 代理人： | 曹卫良 |
| 地址： | 130033 吉林省长春*** | 国省代码： | 吉林;22 |
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| 摘要： | 本发明提供一种外差二维光栅位移测量系统及测量方法，其中的方法包括：S1、通过光源产生两束重合、偏振正交且具有固定频差的线偏振光；S2、两束线偏振光分别通过读数头入射到二维光栅的表面生成第一维度±1级衍射光和第二维度±1级衍射光，再经读数头分别入射到光电接收模块；S3、光电接收模块分别根据第一维度±1级衍射光和第二维度±1级衍射光生成对应的拍频信号，发送至信号处理系统；S4、信号处理系统分别对第一维度±1级衍射光生成的拍频信号及第二维度±1级衍射光生成的拍频信号进行差分计算，实现二维光栅第一维度和第二维度的单次衍射4倍光学细分的位移测量。本发明可以避免光栅面形精度和光栅姿态误差对测量精度的影响。 | ||
| 搜索关键词： | 外差 二维 光栅 位移 测量 系统 测量方法 | ||
【主权项】：
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