[发明专利]一种退火方法及装置有效

专利信息
申请号: 202010953960.5 申请日: 2020-09-11
公开(公告)号: CN112038224B 公开(公告)日: 2022-12-02
发明(设计)人: 刘敏;郑柳 申请(专利权)人: 中国科学院微电子研究所
主分类号: H01L21/268 分类号: H01L21/268;H01L21/67
代理公司: 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 代理人: 柳虹
地址: 100029 北京市朝阳*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 本申请实施例提供了一种退火方法及装置,方法包括:提供待退火膜层,待退火膜层具有待退火区域;根据待退火区域的预设退火深度,以及预先建立的退火深度与退火时长的对应关系,确定预设退火深度对应的预设退火时长;利用连续激光器对待退火区域进行预设退火时长的照射。由此可见在本申请实施例中,可以利用连续激光器对待退火膜层进行照射,由于连续激光器的照射时间不受脉宽的限制,因此是可以准确控制的且可控制的范围较广,因此在确定预设退火深度对应的预设退火时长后,可以通过控制连续激光器的照射时间来控制待退火膜层的预设退火时长,进行实现满足不同场景下的退火深度,实现退火深度的准确控制,更好的满足实际需求。
搜索关键词: 一种 退火 方法 装置
【主权项】:
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